Yole数据显示光刻机国产率2025年降至1.3%，落后于其他芯片设备

OFweek援引Yole数据称，光刻机国产率从2021年的2%降至2025年的1.3%，预计2030年约6%，是2025年唯一未达2%、2030年唯一未达10%的芯片设备。工艺上国产设备多数已达28nm稳定量产、部分达5nm，而光刻机仅稳定量产90nm，40nm认证中，28nm尚在研发。文中归因于ASML对核心供应链的独家绑定，并提到有未经证实的消息称国产浸润式光刻机可能即将突破、可推进至7nm。