英特尔 CTO 称与台积电制程技术差距小于 10%，产能追赶仍需时间
英特尔 CTO 称其与台积电制程技术差距小于 10%，但产能追赶仍需时间
摘要快讯
英特尔 CTO 普什卡尔·拉纳德 10 月 22 日在 Dwarkesh Patel 采访中表示，英特尔与台积电制程技术差距已缩小至几个百分点（小于 10%），但晶圆制造规模仍明显落后，追赶将是一个缓慢过程。
推荐理由
英特尔 CTO 亲自谈与台积电制程差距和产能瓶颈，是芯片制造竞争格局的直接一手表态。
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来源：IT之家 · ithome.com