华为余承东称 EUV 设备是制造先进芯片的关键，国内正在研发

华为余承东在 9 月 29 日国际媒体圆桌会议上表示，极紫外光刻（EUV）设备是制造先进芯片的关键，中国目前正在研发这些设备，现阶段国内仍依靠深紫外光刻（DUV），逻辑折叠（LogicFolding）技术是技术受限情况下提升能力的方法。