日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%

日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器，可实现 50% 氖气回收率，未来调整系统配置后有望进一步提升效率。该技术有望弥补俄乌冲突后的芯片供应链缺口，2022 年前乌克兰供应了全球半导体约 50% 的氖气，全球约 70% 的氖气产量用于半导体制造。