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Gigaphoton 推出 hTGM 氖气回收系统，回收率 50%
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AI 综述
2026 年 10 月 6 日，据 IT之家报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器，可实现 50% 的氖气回收率，未来调整系统配置后有望进一步提升回收效率。报道指出，该技术有望弥补俄乌冲突后的芯片供应链缺口：2022 年前乌克兰供应了全球半导体约 50% 的氖气，而全球约 70% 的氖气产量用于半导体制造。目前该消息仅为产品发布报道，尚无后续应用或落地进展的报道。
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最新进展10月6日 22:18
Gigaphoton 发布 hTGM 氖气回收系统，回收率达 50%，后续有望进一步提升。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月6日
- IT之家日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器，可实现 50% 氖气回收率，未来调整系统配置后有望进一步提升效率。该技术有望弥补俄乌冲突后的芯片供应链缺口，2022 年前乌克兰供应了全球半导体约 50% 的氖气，全球约 70% 的氖气产量用于半导体制造。
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