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上海微电子进博会展出SSB800/SSC800光刻机
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AI 综述
2026年11月11日，OFweek报道，上海微电子在进博会上展出SSB800和SSC800两款光刻机模型，分别适配I-line和KrF技术路线，基于双工件台平台并搭载国产大NA物镜，关键零部件国产化率超过90%。报道称，I-line大约对应350nm、KrF大约对应110nm左右制程，有人据此认为其落后ASML约20多年；但作者认为，这种比较仅在与同类I-line、KrF产品对比时才有意义，两款设备的实际意义在于成熟制程芯片生产可国产替代，不再依赖ASML、佳能、尼康的进口。
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最新进展11月11日 11:13
进博会展出SSB800/SSC800光刻机模型，国产化率超90%，被指制程落后ASML约20年。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
11月11日
- OFweek · 电子工程与元器件上海微电子展出SSB800、SSC800光刻机，国产化率超90%仍被指落后ASML 20年
进博会上上海微电子展出SSB800和SSC800光刻机模型，分别适配I-line、KrF技术路线，基于双工件台平台并搭载国产大NA物镜，关键零部件国产化率超过90%。有人认为I-line对应350nm、KrF对应110nm左右制程，落后ASML约20多年；作者认为领先仅指与同类I-line、KrF产品相比，其意义在于成熟芯片生产可国产替代，不再依赖ASML、佳能、尼康进口。
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