上海微电子展出SSB800、SSC800光刻机，国产化率超90%仍被指落后ASML 20年

进博会上上海微电子展出SSB800和SSC800光刻机模型，分别适配I-line、KrF技术路线，基于双工件台平台并搭载国产大NA物镜，关键零部件国产化率超过90%。有人认为I-line对应350nm、KrF对应110nm左右制程，落后ASML约20多年；作者认为领先仅指与同类I-line、KrF产品相比，其意义在于成熟芯片生产可国产替代，不再依赖ASML、佳能、尼康进口。