佳能发布KrF扫描式半导体光刻机FPA-6400ES6a，12月上旬发售

佳能于2026年11月10日宣布，将于12月上旬发售面向存储和逻辑芯片的KrF（曝光波长248nm）扫描式光刻机FPA-6400ES6a。新机通过超高加速度载台实现每小时400片晶圆曝光（300mm基板、96个曝光单元条件），套刻精度达业界高水平的4.0nm；可选配新光源Hi-ALS强化对准，可对应晶圆翘曲量扩大至700μm，并搭载再生电力利用技术降低每片晶圆耗电量。